更强大、更便宜！开创性新方法或将从根本上改变纳米芯片的前景

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[color=rgb(106, 124, 146) !important]开创性的方法创造了更好，更便宜的纳米芯片

[color=rgb(106, 124, 146) !important]（Nanowerk News）自第一台占据整个房间并重达数吨的计算机以来，技术实现了跨越式发展。在随后的几十年中，计算机和电子元件变得越来越小，越来越快，越来越节能。这种不断发展的技术向更小型和更强大的计算机发展，使我们走到了今天，在纳米尺度上寻求进步。由欧盟资助的SWING项目支持的一组研究人员现已在纳米技术方面取得了另一项突破。他们发明了一种在2D半导体上制造原子级薄处理器的新方法。他们的发现可能从根本上影响使用2D材料的半导体研究，并在纳米级芯片生产领域带来深刻变化。

[color=rgb(106, 124, 146) !important]由纽约大学Tandon工程学院的化学和生物分子工程教授Elisa Riedo领导的团队在Nature Electronics杂志上发表的一篇论文中讨论了他们的研究结果（“单层MoS2上的金属触点图案化，使用热纳米光刻法消除了肖特基势垒”）。研究人员？创新方法涉及使用加热到100°C以上的探针进行光刻。被称为热扫描探针光刻（t-SPL），该技术比在二维半导体（MoS2）等二维半导体上制造金属电极的常规方法表现更好。诸如MoS2的材料被认为有希望用于开发新颖的电子元件。

该方法的优点

[color=rgb(106, 124, 146) !important]根据这项研究，t-SPL方法优于电子束光刻（EBL）？目前使用的方法??在很多方面。首先，它大大提高了2D晶体管的质量。它通过抵消肖特基势垒来实现这一点，肖特基势垒阻止半导体材料和金属相遇的电子流动。其次，它使芯片设计人员能够更容易地对2D半导体进行成像，并以他们希望的任何方式对电极进行图案化。 EBL方法不允许的东西。第三，t-SPL方法不仅可以节省初始投资成本，还可以节省运营成本。由于这种系统在环境条件下工作，因此功耗更低，因此不需要产生高能电子或超高真空。最后，使用平行热探针的这种新制造方法可以容易地实现工业规模的纳米芯片生产。一篇发表在“科学日报”上的文章？网站报道Riedo教授希望t-SPL将大部分制造工作从昂贵且供不应求的洁净室转移到个别实验室。如果这成为可能，它可能会导致材料科学和芯片设计的进展比目前更快。

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[color=rgb(106, 124, 146) !important]自2016年推出以来，SWING（用于loGics和计算的Patterning Spin-Wave可重复配置的纳米设备）一直致力于推动放大镜领域的发展。一个快速发展的领域，结合了磁力学，自旋电子学和电子学。 SWING的跨学科方法得益于磁学，纳米科学，光子学和企业家精神方面的专业知识。该项目于2019年10月结束。

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